SEMICONDUCTORESTecnologías para Ambientes Controlados
Industria
Semiconductores
Control de partículas, contaminación molecular y descarga electrostática en fabricación de semiconductores.
Ficha técnica por número de parte
Referencias de norma
Consumo recurrente
En una fab, el defecto que mata un chip mide una fracción de la geometría que se está imprimiendo. Por eso el control de contaminación en semiconductores no se parece al de ninguna otra industria: no basta con que el aire esté limpio, hay que controlar también lo que sueltan las superficies, los guantes y el propio paño con el que se limpia.
Productos para esta industria
Wipe de Poliéster VANTERIS 9 × 9 inVTN-WP-PES-LS-999 × 9 in (228.6 × 228.6 mm)
Tapete Autoadhesivo VANTERIS 24 × 36 in, AzulVTN-MAT-PE-STK-2436-BLU24 × 36 in
Cofia Tipo Escafandra VANTERIS 40 × 42 cm, BlancaVTN-AP-PP-NH-UNI-WHT40 × 42 cm
Foam Swab VANTERIS cabeza circular grandeVTN-SW-PU-LC-132132.2 mm
Retos típicos
- Partículas por debajo de la geometría de proceso
- Contaminación molecular en fotolitografía
- Descarga electrostática en wafer y dispositivo
- Compatibilidad del consumible con solventes de proceso
Normas de referencia
| ISO 14644-1 | Clasifica la limpieza del aire por concentración de partículas (clases ISO 1 a 9). |
|---|---|
| ISO 14644-9 | Clasifica la limpieza de superficies por concentración de partículas. |
| IEST-RP-CC004 | Método para evaluar paños de limpieza de cuarto limpio. |
| ANSI/ESD S20.20 | Requisitos de un programa de control de descarga electrostática. |